質量流量計：精準測量的工業“智慧之眼”

層流壓差式質量流量計：精準測量的革新力量

在工業自動化與精密制造蓬勃發展的今天，流量測量技術已成為生產控制的核心環節。層流壓差式質量流量計憑借其原理和高性能，正逐步成為高精度氣體流量測控領域的技術。

一、技術原理：科學定律的精準演繹

層流壓差式質量流量計基于哈根-泊肅葉定律設計，通過層流元件將湍流轉化為穩定層流狀態，利用壓差傳感器測量流體兩端的壓力差，結合溫度與壓力補償，直接計算質量流量。其核心流程包括：

層流整流：通過精密設計的層流元件，強制流體進入層流狀態，消除湍流干擾。

壓差測量：高靈敏度壓差傳感器實時捕捉層流元件兩端的壓力差信號。

動態補償：結合溫度、壓力傳感器數據，修正環境變量對測量的影響，確保輸出結果的準確性。

這一原理不僅簡化了傳統流量計的復雜標定流程，還實現了理論模型與實際應用的高度統一。

二、核心優勢：突破傳統局限的六大特性

超高精度

測量精度可達±0.5%~1%R.D，重復性優于±0.2%F.S.，滿足半導體制造、生物醫藥等嚴苛場景需求。

層流狀態的穩定性避免了湍流帶來的隨機誤差，數據一致性顯著提升。

快速響應與即開即用

毫秒級響應速度（壓力波以聲速傳播），無需預熱即可工作，適用于動態調節場景。

多氣體兼容性

支持任意氣體或混合氣體測量，僅需輸入氣體粘度參數即可切換，無需額外標定。

環境適應性強

工作溫度范圍達-50℃~110℃，抗污染能力突出（流道口徑大、無易損加熱元件），耐受粉塵、結晶等惡劣工況。

寬量程與高穩定性

量程覆蓋0.5 SCCM至10,000 SLPM，控制范圍1%~100%，長期使用無漂移。

維護便捷

傳感器抗污染設計（如抗二氧化硅結晶），清洗后校準即可恢復性能，維護周期長、成本低。

三、應用場景：賦能制造業多元領域

半導體制造

用于CVD工藝、刻蝕機、氣相沉積等環節，精準控制硅烷（SiH?）、氬氣等工藝氣體流量，避免微小誤差導致芯片缺陷。

新能源材料開發

在硅碳負極流化床中，穩定控制硅烷與乙炔流量，解決傳統熱式流量計因結晶附著導致的測量失真問題。

生物醫藥與實驗室分析

精密配比滅菌氣體、反應氣體，保障生物反應器與色譜儀的運行可靠性。

環保監測與工業安全

實時監測氣體泄漏量（如甲烷、VOCs），響應速度與精度遠超傳統設備。

表面處理與噴涂工藝

在真空鍍膜、等離子噴涂中實現氣體流量的毫秒級動態調節，提升涂層均勻性。

層流壓差式質量流量計以科學原理為基石，以工業需求為導向，正在重新定義精密測量的邊界。無論是追求高精度的半導體產線，還是復雜多變的化工環境，它都以穩定、精準、可靠的表現，成為工業智能化進程中的“流量守護者"。